パワー半導体用メタライズドセラミックハウジング
パワー半導体用のメタライズドセラミックハウジングは、単なる保護容器ではありません。ベアチップと外部回路系を接続するブリッジです。また、デバイスの放熱効率、絶縁強度、長期信頼性を決定する重要なキャリアでもあります。-
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製品説明

パワー半導体用メタライズドセラミックハウジングは、パワー半導体モジュールの電気絶縁、気密パッケージ、および外部相互接続を担当するコアパッケージコンポーネントです。高純度アルミナまたは窒化アルミニウムセラミックを絶縁基材として使用し、セラミックの表面を溶接可能なメタライゼーション層で覆うことにより、セラミックと電源端子間の信頼性の高い接続を実現します。
コア機能
電気絶縁機能
セラミックマトリックスは非常に高い絶縁耐力を持ち、隣接する電源端子間および端子と放熱基板間で確実な電気的絶縁を形成でき、破壊や部分放電を起こすことなく数千ボルトから数万ボルトの電圧試験に耐えることができます。
01
密閉包装機能
メタライズドセラミックシェルとコバールカバーは銀銅でろう付けされ、密閉キャビティを形成し、チップ、バインディングワイヤ、内部相互接続構造を完全に密閉し、アルミナセラミック部品の精密機械加工において外部の湿気、塩水噴霧、腐食性ガスを隔離します。
02
信号と電力のパススルー機能-
セラミック上のメタライズスルーホールや表面配線を通じて、内部チップの制御電極やエミッタなどの微弱電流信号を外部駆動回路に導き、主電源電流を外部バスバーから内部チップのセラミックメタライズに導入します。
03
機械的サポートと位置決め機能
セラミック シェルはモジュールの構造骨格として機能し、チップの取り付け、銅被覆セラミック基板の位置決め、電気部品用のメタライズド アルミナ セラミックの外部ヒートシンクの設置に正確な幾何学的ベンチマークと十分な機械的強度を提供します。{0}
04

製造工程
セラミックテープキャスティング
アルミナ粉末に有機溶剤、分散剤、結合剤を混合してスラリーとし、ドクターブレードで塗布して均一な厚みのセラミックグリーンテープを形成します。高純度アルミナ精密アドバンストセラミックメタライゼーション部品の厚さ公差は±0.02mm以内に管理されています。
ラミネートとラミネート
未加工テープの各層は、設計された順序に従って積み重ねられ、静水圧プレスされ、多層構造がしっかりと結合されます。-。精密メタライズドセラミックスの層間剥離や変形を避けるために、ラミネートの圧力と温度を正確に制御する必要があります。
高温-焼成-
積層されたセラミック素地は剥離され、高温炉で焼結されます。-有機成分が完全に除去され、セラミック粒子が焼結して緻密化され、金属化層とセラミックマトリックスとの間の界面反応が起こり、強力な結合が形成されます。
メタライズドグラフィックスクリーン印刷
原反テープの表面にモリブデンマンガンスラリーを設計パターンに従って印刷し、端子部や配線部のパターンを形成します。アルミナセラミック部品の精密加工においては、印刷精度が最終製品のアライメントずれに直接影響します。

詳細表示
セラミックと金属化層間の界面転移
界面には気泡、層間剥離、微小亀裂はありません。電子プローブ分析により、元素が突然の変化ではなく勾配を持って分布していることがわかります。これが高結合力のミクロの本質です。
位置決め機能の精度
位置決め穴、段差面、ガイド斜面の寸法公差をミクロンレベルで管理。自動装着装置との連携により再現性が高く、精密メタライズドセラミックスの生産ラインのスローレートを大幅に削減します。
シェル面のワープ制御
焼結後、シェルの全体的な反りは非常に狭い範囲内に制御され、銅クラッド セラミック基板とヒートシンクとの均一な嵌合が保証され、高純度アルミナ精密アドバンスト セラミック メタライゼーション部品の局所的な応力集中が回避されます。{0}
外観検査用の光学規格
外観検査は規格化された光源のもとで実施します。メタライズ部分には欠け、ピンホール、傷はありません。セラミック本体には亀裂や角の欠けがなく、金属化セラミックに対する汚染もありません。

お問い合わせ
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